金属酸化物膜付き基体の製造方法

Production of substrate provided with metal oxide film

Abstract

(57)【要約】 【目的】 導電性基体および導電性を付与した誘電性基 体上に、電気泳動電着法によって得られる金属酸化物膜 の付着力を向上させるとともに、透明な金属酸化物膜を 形成することを目的とする。 【構成】 金属酸化物コロイド、有機金属化合物、水、 アルコールおよび塩基を含む溶液中に、導電性基体ある いはその表面に導電性を付与した誘電性基体を浸漬し、 前記溶液中に設置された対向電極との間に電圧を印加 し、前記導電性基体あるいは前記誘電性基体の表面に前 記金属酸化物コロイドを電気泳動させ電着膜とし、さら に前記析出膜を熱処理する金属酸化物膜付き基体の製造 方法である。
PURPOSE: To improve the adhesion of the metal oxide film obtained on a conductive substrate or a conductive dielectric substrate by an electrophoretic electrodeposition method and to form a transparent metal oxide film. CONSTITUTION: A conductive substrate or a dielectric substrate whose surface is made conductive is dipped in a soln. contg. a metal oxide colloid, an organometallic compd., water, alcohol and a base. A voltage is impressed between the substrate and a counter electrode set in the soln., and the metal oxide colloid is subjected to electrophoresis on the surface of the substrate to form an electrodeposited film. The deposited film is heat-treated to produce the substrate provided with the metal oxide film.

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